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超分散透明纳米氧化锆R10在抛光领域的应用

2025-09-03 IP属地 广东广州 0

超分散透明纳米氧化锆R10在抛光领域的应用

 

超分散透明纳米氧化锆(VK-R10技术指标:纯度99.9%,粒径10-20nm,比表面积30-60

 

超分散透明纳米氧化锆VK-R10凭借独特性能,在抛光领域应用广泛,其核心优势与应用要点如下:

 

一、突出的透明分散特性

 

 VK-R10添加到水或醇中,浓度为1%-5%时,溶液呈透明状态,便于观察混合情况与抛光过程。

 即便浓度提升至20%,其透明度仍能保持在50%以上,在高含量下仍能保证良好的分散性,不影响抛光液的稳定性和操作可视性。

 

二、多领域应用场景

 

1光学领域:用于光学镜片、镜头等抛光,能精准去除表面瑕疵,提升透光率和成像质量,操作人员可透过透明抛光液实时把控进度。

2 电子领域:在半导体芯片抛光中,可实现原子级平坦化,保证抛光均匀性,提高芯片良品率和性能稳定性。

3金属加工领域:适用于航空航天零部件、精密机械零件等抛光,能去除加工痕迹,提升表面光洁度与机械性能。

 

三、用量的确定因素

 

1 被抛光材料:硬度高的材料(如蓝宝石)需较高浓度(8%-15%),软质金属(如铜、铝)用量较低(3%-8%)。

2 抛光工艺:追求高抛光速率可适当增加用量,但需避免过量导致表面损伤;要求超高表面光滑度时,可降低用量并延长抛光时间。

3 设备条件:根据抛光设备的转速、压力等参数调整用量,高速设备可适当减少用量以保证稳定性。

 

综上,VK-R10的高透明分散性和灵活的用量适配性,使其成为抛光领域的高效材料,满足多场景高精度抛光需求。

 

超分散透明纳米氧化锆(VK-R10)由杭州万景新材料有限公司采用高纯水热法独家制备,相较传统工艺,该方法能精准调控晶体生长,实现粒径均匀分布与卓越分散性,从根源减少团聚;无需依赖表面活性剂,z大程度保留氧化锆本征透明度,高添加量下仍能维持光学性能稳定;制备过程清洁可控,产品纯度达99.9%以上,化学稳定性与力学性能更优,充分彰显企业在纳米材料领域的技术深耕。

 

(联系人:甘先生 1862016280 微信同号)